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高精度蚀刻技术:反应离子蚀刻介绍

来源:未知 发布时间:2015-10-24 01:03 点击: 
反应离子蚀刻技术是一种物理化学工艺过程。化学反应气体(自由基、离子)与待除去的铜箔反应。生成一种挥发性气体化合物,它很容易从此表面上抽吸掉。反应等离子蚀刻是有选择性的,优先与要去除的铜箔发生反应,但不与保护胶发生反应。反应离子蚀刻可以是全方位的(各向同性),也可以是有方向性的(各向异性),取决于使用的等离子条件。当然,在高精度的制造场合,我们选取的是其各向异性的特征。该蚀刻方式不仅蚀刻精度高,而且蚀刻速率快(每分钟蚀刻铜箔的速率为几千埃),是最为理想的高精度时刻方式。
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